磁控溅射有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?

磁控溅射作为一种物理 气相沉积（PVD）技术，在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用，提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型，每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述：

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在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备，让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力！

新铂科技参加2023国际新材料展

2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)

HiPIMS，低温ITO沉积的机会！

真空电源从“Nokia”到“Iphone”

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公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊，彰显新铂科技在高功率磁控溅射方面有较多的技术积累。

对比阴极弧与HiPIMS对AlTiN沉积膜层的研究

目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式，而PVD沉积除磁控放电外，还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积，相比磁控，阴极弧放电结构简单，已广泛应用于各种涂层技术的制备，如装饰镀层，其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高，硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求，

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